リフトオフプロセス対応のフォトレジストについてのお問い合わせ
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NAGASEグループのナガセケムテックスでは、リフトオフプロセスに対応した特徴的なフォトレジスト(感光性材料、Lift-off Photoresist)を開発しています。
単層のポジタイプのレジストはもちろん、細線化に対応した2層タイプのレジストも取り揃えています。2層タイプは従来品に比べ、低温ベークと容易なサイドエッチングのコントロールを実現。お客様の個別のニーズ、細かなご要望にあわせた材料開発もぜひご相談ください。
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